[반도체 용어] 9. D.I Water, 초순수(UPW)

*이전 반도체 용어 시리즈를 보고 오면 이해하는데 도움이 됩니다.

 

[초순수(UPW)]

우리가 평상시 마시고 사용하는 물에는 무기질, 박테리아, 미생물 등 다양한 성분이 포함되어 있습니다. 그러나 초순수(UPW, Ultra Pure Water)는 그러한 성분 없이 순수하게 H2O로만 이루어져 있습니다. 초순수를 만들기 위해서는 약 20~30개에 달하는 공정을 거칩니다.

[D.I Water]

D.I Water(De-ionized Water)란 이온 성분을 제거한 물입니다. 초순수와 큰 차이는 없지만 엄밀히 구분하자면 D.I Water는 초순수보다 넓은 개념입니다.

D.I Water의 저항 : 약 1MΩ 이상

초순수의 저항 : 약 17.5MΩ 이상

 

[반도체 산업에서의 초순수]

반도체 공정에는 수많은 오염물질과 부산물이 발생합니다. 이를 세척하기 위해서는 물을 사용해야 하는데요, 일반적인 물을 사용하면 그 속의 불순물이 반도체에 영향을 줄 수 있습니다. 따라서 불순물이 거의 없는 초순수를 사용합니다. 주로 세정, 연마, 포토 공정에서 사용됩니다.

초순수를 웨이퍼에 뿌리는 사진 / 출처 : 유튜브 '삼성전자 반도체 뉴스룸'

 

[반도체 용어 8편 : 스토커, EMO 스위치]

[반도체 용어] 8. 스토커(Stocker), EMO 스위치

[반도체 용어 10편 : Leak, Leak Check]

[반도체 용어] 10. Leak, Leak Check